物理与工程

2019, v.29(S1) 92-96

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扩展光源照明下的杨氏双缝干涉场分析
ANALYSIS OF YOUNG'S DOUBLE-SLIT INTERFERENCE FIELD ILLUMINATED BY EXTENDED LIGHT SOURCE

丁文革;安泽尧;张荣香;代秀红;

摘要(Abstract):

首先利用波的叠加与干涉理论,分别给出单色和复色扩展光源照明时杨氏双缝干涉场的强度分布公式,然后利用Matlab软件,模拟分析不同参量下单色和复色扩展光源干涉场的强度分布及其干涉条纹衬比度的变化规律。结果表明,在单色扩展光源照明情况下,当光源宽度增加时,干涉场的背景光强变大,干涉条纹衬比度下降,直至光场变为均匀分布,即条纹衬比度变为零。之后光强又出现从极大到极小的周期性变化,但条纹衬比度很小。当双缝间距增加时,干涉场的变化趋势与扩展光源宽度增加时类似。当光源与双缝屏之间的距离增加时,条纹衬比度呈振荡式增大,并最终趋近于一定值。在复色扩展光源照明的情况下,光强分布一般较复杂,但选取合适的参量,仍可获得由极大到极小周期性变化的干涉场。

关键词(KeyWords): 杨氏实验;扩展光源;干涉光强分布;干涉条纹衬比度

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 河北省教育厅项目(ZD2018055)资助

作者(Author): 丁文革;安泽尧;张荣香;代秀红;

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