光刻胶特性曲线参数测量的新方法A NEW METHOD FOR THE MEASUREMENT OF CHARACTERISTIC CURVE PARAMETERS OF PHOTORESIST
张洪波
摘要(Abstract)：
文中通过台阶实验的数据结合光刻胶光栅掩模的槽形,得到光刻胶特性参数,利用这些参数可以模拟出任一曝光量,任一显影时间,任一空频下,光栅掩模的槽形.为今后制作符合要求的光栅提供有力依据.
关键词(KeyWords)： 光刻胶;台阶实验;光栅掩模;特性参数
基金项目(Foundation):
作者(Author): 张洪波
参考文献(References)：
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