光学干涉在二次电光系数测量中的应用与分析APPLICATION AND ANALYSIS OF THE OPTICAL INTERFERENCE IN THE QUADRATIC ELECTRO-OPTIC COEFFICIENT MEASUREMENT
田浩,周忠祥,王晓鸥,宫德维,霍雷,张宇
摘要(Abstract)：
为了更加深入地掌握光学干涉原理以及晶体材料的电光效应,我们搭建了利用干涉原理的典型光学系统——马赫-曾德尔电光系数干涉测量系统.首先,结合光学干涉原理和晶体材料的二次电光效应,进行了详细的理论推导,证明了测量方法的正确性和可行性.之后,以钽铌酸钾钠(KNTN)晶体作为研究对象,在实验中测量得到了其二次电光系数s11为2.28×10-15 m2·V-2.在此过程中,通过对马赫-曾德尔光学干涉测量系统的理论剖析与实际应用,相信可以帮助同学们更深入地理解和掌握光学干涉、晶体折射率及其电光效应的本质与原理.
关键词(KeyWords)： 电光效应;电光系数;干涉
基金项目(Foundation): 黑龙江省新世纪高等教育教学改革项目;; 黑龙江省教育科学“十二五”规划2012年度省重点课题“物理学拓展与创新人才的培养”(JJB1212030);; 哈尔滨工业大学研究生教育教学成果奖培育项目
作者(Author): 田浩,周忠祥,王晓鸥,宫德维,霍雷,张宇
参考文献(References)：
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